纯水
半导体、液晶面板超纯水
在半导体、液晶面板产品制造过程中，由于生产设备的精密性和生产工艺的复杂性，对其配套设施提出了很高的要求，超纯水水质是在现有的工业生产中水质要求最高的。
在半导体产品生产中，水中的有机物会降低栅氧化层材料的致密性，溶解氧会氧化硅片表面，颗粒会导致栅氧化膜厚度不均、产品图形发生缺陷，金属离子会使产品结晶不良、栅氧化膜的绝缘耐压机能变坏，细菌的繁殖使它成为有机物和微粒的起源地。在液晶面板生产中，水中的碱金属会使绝缘膜耐压不良，重金属会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素会使P型触摸屏特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷会使触摸屏上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒和细菌如吸附在触摸屏表面，就会引起产品特性变差。
根据半导体及面板行业的生产工艺要求，半导体及面板生产过程的超纯水水质必须满足《ASTM D 5127-07》类型E-1.2中的相关指标。
半导体及面板行业用超纯水常用工艺为：
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